1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项成果. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光工艺 IBF 等领域,。

   美国KRI RFICP 220型离子源参数介绍如下：

阳极

电感耦合等离子体
2kW & 2 MHz
射频自动匹配

最大阳极功率

>1kW

最大离子束流

> 1000mA

电压范围

100-1200V

离子束动能

100-1200eV

气体

Ar, O2, N2, 其他

流量

5-50 sccm

压力

< 0.5mTorr

离子光学, 自对准

OptiBeamTM

离子束栅极

22cm Φ

栅极材质

钼

离子束流形状

平行,聚焦,散射

中和器

LFN 2000 or RFN

高度

30 cm

直径

41 cm

锁紧安装法兰

10"CF

适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下射频离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 1000 mA.

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