BDS2型美国BIRD传感器为RF驱动的等离子体应用设计，可在基本和谐波和谐波中调制频率之间提供实时电压，电流，相位角和阻抗。，通过动态阻抗跟踪和时间同步测量，它提供了优化匹配调整，检测过程漂移和稳定室条件所需的可见性。它是为Fab Floor建造的，它将计量级的性能带入现场生产 - 因此您可以清晰和自信地控制RF过程。

  BDS2型美国BIRD传感器产品介绍如下：

每个频率的阻抗清晰度

与基本VI探针不同，BDS2计算基本，谐波和IMD组件之间的阻抗，回报损失和反射系数。

这使得传统传感器缺乏的微调过程控制和更智能的故障诊断。

实时的总信号可见性

BDS2不仅测量向前和反射功率，还可以同时捕获电压，电流和相位角度。

您可以在每个相关频率（不仅仅是基本面）中获得RF信号的完整，时间同步的视图。

无缝集成而无需干扰

鸟类定制设计的传感器头经过精心设计，可以落入现有的RF路径，而不会改变阻抗特性或交付几何形状。

这意味着您可以在不更改经过验证的过程配方的情况下获得精确的VI-φ测量。

蚀刻和沉积终点检测

跟踪相移和谐波行为，以实时和实时检测层过渡和过程完成。

等离子体弧检测和表征

通过瞬态RF签名检测ARC事件 - 通过及早捕获故障来保护硬件并减少计划外的停机时间。

低开放区域端点检测

通过监视微妙的RF签名更改，在低开放区域功能中启用可靠的端点控制可能会失败。

脉冲RF工艺优化

通过微秒级别的分辨率解析瞬态脉冲行为 - 允许对占空比的良好控制，上升/秋季时间以及脉冲RF食谱中的匹配性能。

室清洁验证

通过分析清洁前/清洁后的RF特征来确认室清洁有效性 - 恢复血浆均匀性并保持稳定。

离子通量和能源趋势分析

使用时间分辨的VI行为将血浆密度和离子通量相关联 - 了解蚀刻速率，选择性和均匀性。

等离子体划分过程控制

监视VI和阻抗数据，以在晶圆上保持稳定的等离子体条件，以获取精确的切割并大程度地减少等离子体划分应用中的底物损伤。

会议室到室的匹配

通过比较电压，电流，相位和阻抗来确保跨过程工具的一致交付，这对于工具匹配和范围均匀的均匀性至关重要。

血浆点火检测和控制

跟踪等离子体点火的电压和当前行为，以优化匹配的网络预设，确保快速罢工时间并防止点火故障。

匹配网络健康监测

通过实时阻抗跟踪和相位角度分析确定组件降解或不匹配问题。

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